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晶圓邊緣拋光機 WEP300

可拋光8”以及12”晶圓的外周。本設備拋光鼓安裝風葉和杠桿機構,當拋光鼓旋轉時,風的阻力作用在風葉上,帶動杠桿產生擺動,從而貼在杠桿上的拋光布壓向硅片的力大小產生變化,因此通過控制拋光鼓的旋轉方向以及轉速可以控制拋光力的大小。可以適應各種邊緣拋光形狀,改良了機械手運作方式,將傳統的直線行走方式改良成旋轉運動方式,多個機械手同時旋轉動作將多個晶圓依次搬運到下一個工位。簡化了機械手移動結構,動作更簡單,使用更可靠。改良VN拋光方式,現有方式是晶圓水平放置VN拋,改良后將晶圓豎直放置VN拋,更有利于拋光液充分填滿拋光位置,而其它晶圓表面不易積液,并有SECS通信及數據輸出功能。